




半导体指的是在常温下导电性能介于导体与绝缘体之间的一种材料,主要应用于集成电路、消费电子、通信系统、光伏发电、照明、大功率电源转换等领域,许昌工厂废气处理,在半导体工业加工的过程---会有部分的气体排出,那半导体工业的废气有毒吗,怎么处理好?
半导体工业在加工的过程中会使用到光刻胶、蚀刻液、清洗剂、显影剂等溶剂,而这些溶剂是含有大量的有机物成分,排放出来的废气含有hcl、氨、hf等危险污染物,工厂废气处理系统,而主要处理的是具有挥发性的vocs。
印刷厂废气处理设备工作原理: 光触媒净化装置,在催化剂的作用下,化工厂废气处理标准,常温下使有机废气转化为co2和h20的一种设备。目前,此装置已被---用户广泛使用,均取得---的净化效果。“光触媒”的主要成分是锐钛型二氧化钛(tio2),作为一种新的光催化半导体材料,近半个世纪以来的成功运用,日本已将其列为本世纪重点发展的新技术,被誉为当今上---的空气净化新技术。 经过处理后的洁净空气从废气净化塔上端排气管排入---。 印刷厂废气处理设备采用能去除挥发性有机物(voc)、无机物、、氨气、---类等主要污染物,以及各种恶臭味,脱臭效率可达90%以上,脱臭效果---超过颁布的恶臭污染物排放标准(gb14554-93).无需添加任何物质:只需要设置相应的排风管道和排风动力,使恶臭气体通过本设备进行脱臭分解净化,无需添加任何物质参与化学反应。
催化燃烧的工艺流程
(1)预热式。预热式是催化燃烧的基本流程形式。有机废气温度在100℃以下,浓度也较低,热量不能自给,因此在进入反应器前需要在预热室加热升温。燃烧净化后气体在热交换器内与未处理废气进行热交换,以回收部分热量。该工艺通常采用煤气或电加热升温至催化反应所需的起燃温度。
(2)自身热平衡式。当有机废气排出时温度高于起燃温度(在300℃左右)且有机物含量较高,热交换器回收部分净化气体所产生的热量,在正常操作下能够维持热平衡,无需补充热量,通常只需要在催化燃烧反应器中设置电加热器供起燃时使用。
(3)吸附-催化燃烧。当有机废气的流量大、浓度低、温度低,采用催化燃烧需耗大量燃料时,可先采用吸附手段将有机废气吸附于吸附剂上进行浓缩,然后通过热空气吹扫,使有机废气脱附成为高浓度有机废气(可浓缩10倍以上),再进行催化燃烧。此时,不需要补充热源,就可维持正常运行引。
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